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研磨乳化机是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为，然后在乳化头上面加配了研磨乳化机磨头，使物料可以先经过研磨乳化机细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的研磨乳化机可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）。
7890/13789RPM 可以通过变频调速通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM（转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小）。
IKN研磨乳化机结构：三道磨碎区，为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。虽然都是三级结构，但是他们的设计不同理念不同，形状及齿列的结构。
纳米研磨乳化机特高精度（8SF）均质头：主要用于挤压、催化、加快溶解以及要求特高精度的粉碎。特别适合于微乳化和精细悬浮，可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。
特别应用于:疫苗，细胞破碎，胶体溶液，金属氧化物悬浮液，墨水，印刷涂料，色素混合等等。主要针对低粘度范围的物料，也可以和一个喂料泵相连。
CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
ERS2000系列纳米研磨分散乳化机型号
CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力，可以处理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型研磨乳化机腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
研磨分散机的特点：
1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
5、 的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
设备其它参数:
设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器